Ce masque hydrogel offre une hydratation profonde grâce à l’oligo-acide hyaluronique, qui s’absorbe rapidement et pénètre plus en profondeur que l’acide hyaluronique classique pour une hydratation durable et un teint éclatant.
Formulé avec du collagène à très faible poids moléculaire, il aide à resserrer les pores, améliorer l’élasticité et lisser l’apparence des ridules et rides dès la première utilisation.
Un mélange de trois probiotiques renforce la barrière cutanée, aidant à prévenir les signes précoces du vieillissement et à maintenir la résilience de la peau.
Testé hypoallergénique, ce masque est exempt d’ingrédients agressifs ou irritants, et convient aux peaux sensibles.
Usage externe uniquement. Cessez l’utilisation en cas d’irritation ou d’éruption cutanée. Ne pas appliquer sur une peau coupée ou abîmée. Tenir hors de portée des enfants. Ne pas conserver à la lumière directe du soleil. Éviter le contact avec les yeux.
Laisser poser pendant au moins 3 à 4 heures ou jusqu’à ce qu’il devienne transparent. Une fois que le masque est transparent, retirez-le délicatement.
Water(Aqua), Glycerin, Acrylates Copolymer, Niacinamide, Ceratonia Siliqua (Carob) Gum, Chondrus Crispus Extract, Dipropylene Glycol, Betaine, Algin, Agar, Hydroxyacetophenone, 1,2-Hexanediol, Potassium Chloride, Caprylyl Glycol, Sucrose, Allantoin, Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Galactomyces Ferment Filtrate, Adenosine, Disodium EDTA, Pyrus Communis (Pear) Fruit Extract, Rosa Damascena Flower Water(Aqua), Collagen Extract, Iris Florentina Root Extract, Cucumis Melo (Melon) Fruit Extract, Hedera Helix (Ivy) Leaf/Stem Extract, Butylene Glycol, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Lactobacillus Ferment, Bifida Ferment Filtrate, Lactobacillus Ferment Lysate, Tocopherol
Les listes d’ingrédients utilisés dans la composition des produits sont régulièrement mises à jour. Avant d’utiliser votre produit, veuillez lire la liste des ingrédients sur son emballage afin de vous assurer que les ingrédients sont adaptés à votre usage personnel.



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